外媒：三星3nm工艺良品率不及20%，远最低预期

【环球网科技领域综合刊文】据外媒4月19日刊文，华为基于GAA集成电路的3nm技艺良率近低于预计，其良品率才到10%-20%，这毕竟显然公司需要更加多的时间才能投入量产。

据了解，所谓GAA集成电路——即环绕栅极集成电路，它取代的是FinFET（颊型式场效应集成电路），前者可以充分利用四角充当电流走廊，二者则只有三边。

明年晚些时候曾有刊文称，半导体设备两大Lam Research（泛林）向华为发放了用于3nm GAA芯片蚀刻之外的机器，彼时华为方面称希望在上半年启动全套技艺的数量级验证。